欢迎进入合肥重光电子科技有限公司网站!
15955179814
网站首页
关于我们
产品中心
新闻中心
技术文章
联系我们
产品
展示
product
光刻机
去胶清洗
涂胶显影机
膜厚测量仪器
烘烤加热固化
全柜式涂胶显影一体机
一、概述 SHD6-BE涂胶显影系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、显影单元等部分组成,该设备针对高校研究所实验室,特点是占地面积小,性价价比更高。整机采用框架结构,外表为不锈钢或者PP,无尘且不吸附颗粒,采用7寸操作界面控制,带FFU、上排风接口、腔体为黄色...
查看详情
立即咨询
光刻工艺设备
光刻工艺设备产品概述:$n应用于3D封装、LED、微机电系统、化合物半导体、功率器件等领域$n主要配置:自动对准、自动曝光、LED光源、机器视觉对准系统、高精度硅片承载台、自动楔形误差补偿系统$n LED 光源:3波长任意配置,支持更多应用场景$n高分辨率、高...
查看详情
立即咨询
膜厚测量仪
膜厚测量仪本设备利用反射干涉的原理进行无损测量,测量吸收或者透明衬底上薄膜的厚度以及折射率,同时提供样品反射率,测量精度达到埃级的分辨率,测量迅速,操作简单,界面友好,测量时间不到1秒。可应用于光阻、半导体材料、高分子材料等薄膜层的厚度测量,在半导体、太阳能、...
查看详情
立即咨询
全自动去胶机
全自动去胶机产品介绍:$n1设备名称:全自动干法去胶机$n2设备型号:CGST3100$n3设备原理:ICP$n4晶圆尺寸Wafer size: 8 inch(4或6 inch兼容)$n5晶圆材料Wafer material: Si基(若为其他材料需写明)
查看详情
立即咨询
直写光刻机
CG-MLC6系列直写光刻机是一款精巧型光刻产品。该设备采用数字光刻技术,无需掩模 版,能够直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上。CG-MLC6系列功能灵活、体积小、性价比高,专为各高校、实验室及研究机构量身打造。其主要应用产品包括各类MEMS制作(如MEM...
查看详情
立即咨询
桌上型成像仪
桌上型成像仪MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成,整机采用框架结构,外表为镜面不锈钢,无尘且不吸附颗粒,工作方式为手动上下片,自动完成显影工艺。$n桌上型成像仪显影单...
查看详情
立即咨询
桌上型显影机
桌上型显影机MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成,整机采用框架结构,外表为镜面不锈钢,无尘且不吸附颗粒,工作方式为手动上下片,自动完成显影工艺。$n显影单元基片采用...
查看详情
立即咨询
钙钛矿旋涂仪
钙钛矿旋涂仪应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不...
查看详情
立即咨询
旋涂仪
旋涂仪应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液...
查看详情
立即咨询
自动滴胶匀胶机
自动滴胶匀胶机,MSC-200T-D桌上型半自动旋转涂布机用于对均匀性和一致性要求较高的表面涂布工艺,将光刻胶溶液自动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、光栅、ITO、掩模版等基片上形成薄膜,主要应用于6、8寸晶圆及方形样品。将基材涂上一层特定的光刻胶...
查看详情
立即咨询
关于我们
合肥重光电子科技有限公司
合肥重光电子科技有限公司是一家专业从事仪器设备的生产商。针对国家大力扶持的太阳能电池和半导体等科技领域。我司有专业的检测仪器和工艺实验设备,能够满足不同客户的打样和定制化需求。同时我司与中国科学技术大学微纳加工平台、合肥工业大学微纳加工平台保持技术上的交流,能有效帮助客户解决工艺问题。我司提供产品的定制化代工业务,满足客户对自营品牌的需求,让客户从而实现资产轻量化运营。我司产品优势:提供定制化服务,满足客户多样化需求,从而为客户节约更多科研经费。其中低速匀胶平稳,结束低粘度光阻匀胶依赖进口品牌。
公司荣誉
Honors
视频中心
video
查看更多
See more
新闻中心
News
Center
钙钛矿前驱液特性对钙钛矿旋涂仪效果的影响探究
钙钛矿材料凭借其优异的光电性能在光伏、发光等领域展现出巨大潜力,而钙钛矿旋涂仪在钙钛矿薄膜制备过程中起着关键作用。其中,钙钛矿前驱液的粘度、浓度和溶剂类型对旋涂效果有着显著影响。首先,前驱液的粘度直接影响旋涂过程。粘度较高的前驱液在旋涂时,由于其内部分子间作用力较强,流动性相对较差。在旋涂仪高速旋转产生的离心力作用下,高粘度前驱液难以迅速铺展成均匀的薄膜,容易导致薄膜厚度不均匀,甚至出现局部堆积的现象。相反,粘度较低的前驱液流动性好,能够快速在基底表面铺展开,更易形成厚度均匀...
2025
5
/25
无掩膜曝光机在哪些领域应用广泛?
在现代先进制造与科研领域,无掩膜曝光机凭借其优势,在众多领域得到了广泛应用。在半导体领域,曝光机发挥着极为关键的作用。半导体芯片的制造过程对精度和复杂度要求高,传统的光刻技术虽然成熟,但在某些特定场景下存在局限。曝光机能够直接依据设计图案对晶圆进行曝光,无需制作复杂的掩膜版,大大缩短了芯片研发周期。尤其是在新型半导体材料、器件结构的探索阶段,科研人员可以快速将设计思路转化为实际芯片样品,加速技术迭代与创新,为半导体产业持续发展注入强大动力。微机电系统(MEMS)领域同样离不开...
2025
5
/22
专业服务团队,行业经验丰富
价格合理实惠,拒绝胡乱收费
实力可靠,值得信赖
一站式服务,周到完善
技术
文章
article
2025
6-12
光刻工艺设备的核心使命与应用
在现代科技的浩瀚星空中,芯片无疑是最璀璨的星辰之一。而光刻工艺设备以精细入微的技艺,在半导体材料上刻画出电路的蓝图,为电子设备的智能化与高性能化奠定了坚实基础。一、设备的核心使命光刻工艺设备,简而言之,是一种利用光学原理将设计好的电路图案精确地转移到半导体晶圆上的设备。这一过程是芯片制造中最为关键和复杂的步骤之一,直接决定了芯片的性能、集成度和成品率。设备通过光源发出高强度、高均匀性的光束,经过一系列光学系统的处理,将掩膜版上的电路图案缩小并精确地投影到涂有光刻胶的晶圆表面,...
查看更多
2025
5-22
桌上型显影机显影均匀性的保障之道
在印刷、电子等领域,桌上型显影机的应用十分广泛,而显影均匀性是确保产品质量的关键因素之一。那么,显影机是如何保证显影均匀性的呢?首先,从设计结构来看,合理的喷头布局是基础。显影机的喷头通常采用均匀分布的设计,能够将显影液以较为一致的流量和角度喷洒在待显影的物体表面。例如,在一些高精度的显影机中,喷头会被精心设计成阵列式排列,确保在显影过程中,每一个区域都能接收到适量且均匀的显影液,避免出现局部显影液过多或过少的情况,从而为显影均匀性提供了初步的硬件保障。温度控制也是至关重要的...
查看更多
links
友情链接
AMTECS电机
TEL:15955179814
扫码加微信