欢迎进入合肥重光电子科技有限公司网站!
15955179814
网站首页
关于我们
产品中心
新闻中心
技术文章
联系我们
产品
展示
product
光刻机
去胶清洗
涂胶显影机
膜厚测量仪器
烘烤加热固化
HMDS增粘涂胶机
本产品应用于在匀胶前的硅片等基片表面均匀涂布一层HMDS。作用:降低HMDS处理后的硅片接触角,进而降低匀胶时光刻胶在硅片表面铺展开的难度,提高光刻胶与硅片的黏附性,降低光刻胶的用量。
查看详情
立即咨询
全柜式涂胶显影一体机
一、概述 SHD6-BE涂胶显影系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、显影单元等部分组成,该设备针对高校研究所实验室,特点是占地面积小,性价价比更高。整机采用框架结构,外表为不锈钢或者PP,无尘且不吸附颗粒,采用7寸操作界面控制,带FFU、上排风接口、腔体为黄色...
查看详情
立即咨询
光刻工艺设备
光刻工艺设备产品概述:应用于3D封装、LED、微机电系统、化合物半导体、功率器件等领域主要配置:自动对准、自动曝光、LED光源、机器视觉对准系统、高精度硅片承载台、自动楔形误差补偿系统 LED 光源:3波长任意配置,支持更多应用场景高分辨率、高均匀性;使用寿命...
查看详情
立即咨询
膜厚测量仪
膜厚测量仪本设备利用反射干涉的原理进行无损测量,测量吸收或者透明衬底上薄膜的厚度以及折射率,同时提供样品反射率,测量精度达到埃级的分辨率,测量迅速,操作简单,界面友好,测量时间不到1秒。可应用于光阻、半导体材料、高分子材料等薄膜层的厚度测量,在半导体、太阳能、...
查看详情
立即咨询
全自动去胶机
全自动去胶机产品介绍:1设备名称:全自动干法去胶机2设备型号:CGST31003设备原理:ICP4晶圆尺寸Wafer size: 8 inch(4或6 inch兼容)5晶圆材料Wafer material: Si基(若为其他材料需写明)
查看详情
立即咨询
直写光刻机
CG-MLC6系列直写光刻机是一款精巧型光刻产品。该设备采用数字光刻技术,无需掩模 版,能够直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上。CG-MLC6系列功能灵活、体积小、性价比高,专为各高校、实验室及研究机构量身打造。其主要应用产品包括各类MEMS制作(如MEM...
查看详情
立即咨询
桌上型成像仪
桌上型成像仪MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成,整机采用框架结构,外表为镜面不锈钢,无尘且不吸附颗粒,工作方式为手动上下片,自动完成显影工艺。桌上型成像仪显影单元基...
查看详情
立即咨询
桌上型显影机
桌上型显影机MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成,整机采用框架结构,外表为镜面不锈钢,无尘且不吸附颗粒,工作方式为手动上下片,自动完成显影工艺。显影单元基片采用真空...
查看详情
立即咨询
钙钛矿旋涂仪
钙钛矿旋涂仪应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不...
查看详情
立即咨询
旋涂仪
旋涂仪应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液...
查看详情
立即咨询
关于我们
合肥重光电子科技有限公司
合肥重光电子科技有限公司是一家专业从事仪器设备的生产商。针对国家大力扶持的太阳能电池和半导体等科技领域。我司有专业的检测仪器和工艺实验设备,能够满足不同客户的打样和定制化需求。同时我司与中国科学技术大学微纳加工平台、合肥工业大学微纳加工平台保持技术上的交流,能有效帮助客户解决工艺问题。我司提供产品的定制化代工业务,满足客户对自营品牌的需求,让客户从而实现资产轻量化运营。我司产品优势:提供定制化服务,满足客户多样化需求,从而为客户节约更多科研经费。其中低速匀胶平稳,结束低粘度光阻匀胶依赖进口品牌。
公司荣誉
Honors
视频中心
video
查看更多
See more
新闻中心
News
Center
匀胶机满足多样化的应用需求
在半导体制造、光学薄膜涂覆等高精度工艺中,材料的均匀分布是决定产品性能的关键因素之一。匀胶机作为实现这一目标的核心设备,用旋转的韵律演绎着材料均匀化的神奇魔法。匀胶机的工作原理基于离心力与液体表面张力的平衡。当载有光刻胶或其他功能性浆料的基片被放置在高速旋转的平台上时,多余的液体会在离心作用下向边缘甩出,同时形成一层厚度均匀的薄膜覆盖在基片表面。这种动态平衡的过程确保了每一寸面积上的涂层厚度都保持一致,误差控制在纳米级别以内。对于集成电路的生产而言,这意味着更精确的图案转移和...
2025
8
/24
桌上型成像仪使用方法及注意事项详解
桌上型成像仪作为一种紧凑便捷的光学成像设备,在生物医学研究、材料科学、电子制造等众多领域有着广泛的应用。它能够将微小的样品清晰地成像并展现在屏幕上,方便用户进行观察和分析。掌握其正确的使用方法对于获得准确可靠的结果至关重要。一、使用方法1、开机准备:将成像仪放置在平稳的工作台上,连接好电源线并确保电源插座接地良好。打开仪器的电源开关,等待仪器完成自检和初始化过程。部分成像仪可能还需要连接电脑并安装相应的驱动程序和成像软件,按照软件安装向导完成安装后,启动成像软件与仪器进行通信...
2025
7
/24
无掩膜曝光机的工作原理及应用解析
在现代光刻技术中,无掩膜曝光机以其优势逐渐崭露头角,为高精度、高灵活性的图案转移提供了新的解决方案。以下是对曝光机原理的详细解析。一、核心原理概述曝光机的核心原理在于直接利用数字化数据控制光源,实现对基底上光刻胶的精确曝光,而无需传统的物理掩膜版。这一过程主要依赖于动态光学投影或直写技术,通过调整光源的强度、形状和位置,直接在基底上形成所需的图案。这种技术不仅简化了曝光流程,还大大提高了图案设计的灵活性和制作效率。二、关键组成部分与功能1、光源系统:无掩膜曝光机通常采用高强度...
2025
6
/22
钙钛矿前驱液特性对钙钛矿旋涂仪效果的影响探究
钙钛矿材料凭借其优异的光电性能在光伏、发光等领域展现出巨大潜力,而钙钛矿旋涂仪在钙钛矿薄膜制备过程中起着关键作用。其中,钙钛矿前驱液的粘度、浓度和溶剂类型对旋涂效果有着显著影响。首先,前驱液的粘度直接影响旋涂过程。粘度较高的前驱液在旋涂时,由于其内部分子间作用力较强,流动性相对较差。在旋涂仪高速旋转产生的离心力作用下,高粘度前驱液难以迅速铺展成均匀的薄膜,容易导致薄膜厚度不均匀,甚至出现局部堆积的现象。相反,粘度较低的前驱液流动性好,能够快速在基底表面铺展开,更易形成厚度均匀...
2025
5
/25
专业服务团队,行业经验丰富
价格合理实惠,拒绝胡乱收费
实力可靠,值得信赖
一站式服务,周到完善
技术
文章
article
2025
9-11
桌上型旋转涂布机:小型化场景的通用涂布能手
桌上型旋转涂布机是专为实验室研发、小批量生产设计的小型化涂布设备,凭借体积小巧、操作简便、性价比高等核心特点,广泛应用于高校实验室、新材料研发、小型电子元件制造等领域,实现光刻胶、涂料、油墨、生物试剂等多种样品的通用涂布,是兼顾实用性与经济性的涂布解决方案。小型化设计与通用适配是核心优势。设备采用桌上型紧凑结构,占地面积仅0.1-0.3㎡,重量10-20kg,可直接放置于实验台或小型生产线,无需专用安装空间。采用开放式样品放置平台,搭配可更换的基片夹具,适配2英寸至6英寸的...
查看更多
2025
8-12
自动滴胶匀胶机满足现代生产的效率与精度要求
随着工业自动化进程的加速推进,传统手工操作已难以满足现代生产的效率与精度要求。自动滴胶匀胶机应运而生,它将机械臂的灵活性与数字控制的精准度结合,重新定义了材料涂布工艺的标准范式。这款设备的核心竞争力在于其高度集成化的工作流程。不同于单一功能的匀胶设备,它集定量取胶、精准定位、动态调平和智能监控于一体。机械臂搭载高精度泵送系统,能够按照预设程序精确控制每次滴落的液滴体积,误差不超过千分之一毫升。配合视觉识别系统实时校准位置偏差,即使在复杂曲面或异形工件上也能实现毫米级的定点涂布...
查看更多
2025
7-7
光刻工艺设备在芯片制造中的关键作用
在当今数字化时代,芯片无处不在,从智能手机、电脑到汽车、工业自动化系统,芯片是现代科技发展的基石。而光刻工艺设备,作为芯片制造过程中的关键设备之一,在硅片上刻画出微观世界的电路图案,其重要性不言而喻。光刻工艺设备主要用于将设计好的集成电路图形精确地转移到硅片等半导体衬底上。具体来说,它通过一系列的光学和化学过程,把掩模版上的电路图案复制到涂有光刻胶的硅片表面,从而确定芯片上各个元件的位置和连接关系,为后续的蚀刻、掺杂等工艺步骤奠定基础。没有光刻设备,就无法实现芯片的大规模量产...
查看更多
2025
6-12
光刻工艺设备的核心使命与应用
在现代科技的浩瀚星空中,芯片无疑是最璀璨的星辰之一。而光刻工艺设备以精细入微的技艺,在半导体材料上刻画出电路的蓝图,为电子设备的智能化与高性能化奠定了坚实基础。一、设备的核心使命光刻工艺设备,简而言之,是一种利用光学原理将设计好的电路图案精确地转移到半导体晶圆上的设备。这一过程是芯片制造中最为关键和复杂的步骤之一,直接决定了芯片的性能、集成度和成品率。设备通过光源发出高强度、高均匀性的光束,经过一系列光学系统的处理,将掩膜版上的电路图案缩小并精确地投影到涂有光刻胶的晶圆表面,...
查看更多
2025
5-22
桌上型显影机显影均匀性的保障之道
在印刷、电子等领域,桌上型显影机的应用十分广泛,而显影均匀性是确保产品质量的关键因素之一。那么,显影机是如何保证显影均匀性的呢?首先,从设计结构来看,合理的喷头布局是基础。显影机的喷头通常采用均匀分布的设计,能够将显影液以较为一致的流量和角度喷洒在待显影的物体表面。例如,在一些高精度的显影机中,喷头会被精心设计成阵列式排列,确保在显影过程中,每一个区域都能接收到适量且均匀的显影液,避免出现局部显影液过多或过少的情况,从而为显影均匀性提供了初步的硬件保障。温度控制也是至关重要的...
查看更多
links
友情链接
安徽工业卷材
钢制保温提升门
素书木梳
水质检测仪
惠州动持ups厂家
大坝安全监测设备
SFERAX轴承
NORGREN减压阀
IFM传感器
AMTECS电机
TEL:15955179814
扫码加微信