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2025-05-22浏览次数
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光刻工艺设备产品概述：$n应用于3D封装、LED、微机电系统、化合物半导体、功率器件等领域$n主要配置：自动对准、自动曝光、LED光源、机器视觉对准系统、高精度硅片承载台、自动楔形误差补偿系统$n LED 光源：3波长任意配置，支持更多应用场景$n高分辨率、高均匀性；使用寿命长，维护简便：$n机器视觉对准系统：顶部和底部双模式对准，大视野、高精度；4种照明光可选，工艺适应性强； 手动、自动模式自由切换
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CG-MLC6系列直写光刻机是一款精巧型光刻产品。该设备采用数字光刻技术，无需掩模 版，能够直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上。CG-MLC6系列功能灵活、体积小、性价比高，专为各高校、实验室及研究机构量身打造。其主要应用产品包括各类MEMS制作（如MEMS麦克风、压力传感器、 加速度计、陀螺仪、超声波传感器、压电传感器）、掩模板制作等。
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实验室无掩膜曝光机$nCG-MLC6系列直写光刻机是一款精巧型光刻产品。该设备采用数字光刻技术，无需掩模 版，能够直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上。CG-MLC6系列直写光刻机功能灵活、体积小、性价比高，专为各高校、实验室及研究机构量身打造。其主要应用产品包括各类MEMS制作（如MEMS麦克风、压力传感器、 加速度计、陀螺仪、超声波传感器、压电传感器）、掩模板制作等。
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