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曝光系统一体机
产品简介

MAS4-BE光刻系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、曝光单元、显影单元等部分组成,该设备针对高校研究所实验室,特点是占地面积小,性价价比更高。整机采用框架结构,外表为不锈钢,无尘且不吸附颗粒,采用PC工控机操作界面控制,带FFU、上排风接口、腔体为黄白两色灯、重力排废接口、且每个模块均可独立工作,操作方式为手动上下样品。

产品型号:MAS4-BE
更新时间:2025-04-17
厂商性质:生产厂家
访问量:236
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产品应用:   

    MAS4-BE光刻系统一体机可实现一机多用,集成化程度更高,占地面积更小。广泛应用于高校研究所实验的光刻工艺,可完成涂胶、烘烤、曝光、显影工序


工艺步骤:

涂胶(放片、滴胶、旋转、取片)→烤机(放片、烘烤、取片)→曝光(放片、曝光、取片)→显影(放片、旋转显影和水洗、取片)→取片(转移下道工序)。

控制系统

控制系统由PC和PLC控制模式,实时显示设备运行过程中各工艺功能执行情况。 可实现自由的配方编辑,自由修改、编辑、存储、及调用工艺配方等。 


技术参数:

曝光系统一体机

外观

不锈钢

 曝光

 

曝光模式:接触式一次曝光


处理尺寸

Ф102mm


光源  4"LED 专用曝光头


 涂胶

转速:20-10000RPM


紫外光中心波长:365nm



加减速度:350-10000RPM/S


操作方式:手动



编程:50组20步

 显影

转速:20-3000 R.P.M


烤胶

温度:RT~300℃


摆臂:自动



面板材质:铝合金


配置:一路显影、一路水



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