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应用领域:
■ 在进行薄膜沉积之前优良行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
■ 清洗硅芯片,透镜,反光镜,太阳能面板,冷轧钢,惯性引导零件和 GaAs 芯片
■ 清洁焊剂,混合电路以及平板 LCD 显示器
■ 蚀刻特氟隆,氟橡胶以及其它有机材料
■ 增强GaAs 和 Si 氧化物钝化表面
■ 增强玻璃的除气作用
■ 基片蓝膜去除
■ 增强塑料表面的镀膜的粘附性
■ 基片终测后墨迹清楚
■ 去除光刻胶
■ 平板显示器/液晶显示器
■ 去除光刻机台上的光刻胶残留物
■ 在电路板封装和打片之前清洗)
■ 光纤
■ 增强表面亲水特性
■ 为生物科学应用做清洗和消毒
■ 光学透镜
■ 其它应用
产品特点
触屏控制 ,适合实验室用 ,操作方便
304 不锈钢机身
密封圈采用氟胶密封 ,提高腔室的密闭性
设备占地面积小 ,可放于桌面或手套箱
臭氧排风功能 ,风速可调( 80mm 接口 ,特殊要求可定制)
技术参数
面积:254mm*254mm
波长:185nm+254nm
灯管:一体式栅格型低压汞蒸汽排放灯
照射高度:基台距灯管·20m-100mm 可调
照射强度:80mw/cm2(平台位于最高处)
机器材质:304不锈钢
排风功能自带臭氧排风系统 ,可调节风速
电源输入:220VAC ,单相, 550W
灯管:250W ,寿命 8000 小时
清洗时间:0-999 分钟可设定
安全防护功能:当盖子打开时 ,灯管自动熄灭
人机界面:4.3 寸工业全彩触屏人机界面
外形尺寸:315mm(W)*528mm(D)*429mm(H)
其他配件
实验室用玻璃切割器 1 台
防潮柜 1 台 :湿度控制:1%-10%RH 可设定
全钢结构通风橱 1 台:1500*870-880*2350-2360mm(长宽高)
本文展示只是其中一种型号,多种机型可选,6寸、12寸以及更大尺寸需求可咨询。