产品型号
MSD-200D厂商性质
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2026-06-18浏览次数
9产品描述
光阻成像仪/桌上型自动显影机MSD-200D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。桌上型成像仪显影单元基片采用真空吸附加四周挡板固定方式，采用进口伺服电机，保证转速、加速度、控制精度高，重复性好；供液系统采用厂务或者压力容器直接供液方式。
产品型号
MSC系列厂商性质
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2026-06-18浏览次数
9产品描述
掩膜涂胶机设备简介：桌上型旋转涂布机，用于对均匀性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液手动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂等基片上形成薄膜，主要应用于12寸以内样品。
产品型号
HMDS8-2厂商性质
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2751产品描述
HMDS增粘涂胶机应用于在匀胶前的硅片等基片表面均匀涂布一层HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS处理后的硅片接触角，进而降低匀胶时光刻胶在硅片表面铺展开的难度，提高光刻胶与硅片的黏附性，降低光刻胶的用量。
产品型号
SHD8-SE厂商性质
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2026-06-18浏览次数
3478产品描述
全柜式涂胶显影一体机概述： SHD8-SE涂胶显影系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、显影单元等部分组成，该设备针对高校研究所实验室，特点是占地面积小，性价价比更高。整机采用框架结构，外表为不锈钢或者PP，无尘且不吸附颗粒，采用7寸操作界面控制，带FFU、上排风接口、腔体为黄色灯、重力排废接口、且每个模块均可独立工作，操作方式为手动上下样品。
产品型号
MSD-200D厂商性质
生产厂家更新时间
2026-05-11浏览次数
2357产品描述
桌上型自动显影机MSD-200D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。 桌上型成像仪显影单元基片采用真空吸附加四周挡板固定方式，采用进口伺服电机，保证转速、加速度、控制精度高，重复性好；供液系统采用厂务或者压力容器直接供液方式。
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