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膜厚测量仪
产品简介

膜厚测量仪本设备利用反射干涉的原理进行无损测量,测量吸收或者透明衬底上薄膜的厚度以及折射率,同时提供样品反射率,测量精度达到埃级的分辨率,测量迅速,操作简单,界面友好,测量时间不到1秒。可应用于光阻、半导体材料、高分子材料等薄膜层的厚度测量,在半导体、太阳能、液晶面板和光学行业以及科研院所和高校都得到了广泛的应用和极大的好评。

产品型号:CGSR系列
更新时间:2025-05-22
厂商性质:生产厂家
访问量:155
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膜厚测量仪测量系统规格:

基本功能:获取薄膜厚度值以及R、N/K等光谱

光谱分析范围:380nm-1000nm

测量光斑大小:标准1.5mm,最小0.5mm

膜厚重复性测量精度:0.02nm(100nm 硅基SiO2样件,100次重复测量)

膜厚精度:0.2%或2nm之间较大者

膜厚测量范围:15nm-70μm

测量n和k值厚度要求:100nm以上

单点测量时间:≤ 1s

光源:标准卤灯光源(光源寿命2000小时)

分析软件:多达数百种的光学材料常数数据库,并支持用户自定义光学材料库;提供多层各向同性光学薄膜建模仿真与分析功能

膜厚测量仪样品台规格:

基板尺寸:支持样件尺寸到150*150mm(可升级定制不同尺寸样品台)

测控与分析软件

光谱测量能力:反射率光谱测量

数据分析能力:膜厚分析能力,光学常数(折射率和消光系数)

支持常用光学常数模型以及常用振子模型(柯西模型、洛伦兹模型、高斯模型等)

支持用户自定义,可离线分析软件模拟实际测量,支持Windows 10操作系统

 

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