全自动去胶机产品介绍：$n1设备名称：全自动干法去胶机$n2设备型号：CGST3100$n3设备原理：ICP$n4晶圆尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch兼容）$n5晶圆材料Wafer material: Si基（若为其他材料需写明）

UV 光清洗机拥有工业级别的清洗效率和效果，采用更简易操作的抽屉式托盘设计，广 泛应用于光伏（钙钛矿电池），半导体芯片（晶圆）和光学元件及光通讯领域，适用于中小尺寸基片清 洗，如液晶面板，ITO，FTO，光学玻璃，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金属片，聚合物，硅胶等表面清洗， 有效清洗基片的表面有机物，即进行表面改质，从而有效提高基片表面的亲水性或附着力。

真空等离子清洗机(Plasma cleaner),气体通过激励电源离化成等离子态，等离子体作用于产品 表面，清洗产品表面污染物，提高表面活性，增强附着性能。等离子清洗是一种新型的、环保、高效、稳定的表面处理方式。$n产品优势$n产品放置治具灵活多变，可适应不规则的产品。$n水平电极设计，可满足软性产品处理需求。$n低耗能、耗气产品。$n便捷的收放板方式。$n真空系统集成，占地面积小。$n合理的等离子反应空间。

全自动干法去胶机产品介绍：$n1设备名称：全自动干法去胶机$n2设备型号：CGST3100$n3设备原理：ICP$n4晶圆尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch兼容）$n5晶圆材料Wafer material: Si基（若为其他材料需写明）