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直写光刻机产品特点:
数字光刻系统
微纳器件无掩模版直写光刻
光掩模版制作
3D结构曝光功能
自动对准功能
用户自定义标记对准功能
可视化定点曝光功能
自动聚焦功能
不规则样片曝光
快速、精细两种曝光模式
支持多种数据格式(GDSⅡ/ Gerber/ O DB++)
背部对准功能(选配)
405nm LD光源(375nm可选)
直写光刻机参数:
|              型号  |                          MLC Lite  |         ||
|              ModeⅠ  |                          Mode Ⅱ  |                          Mode Ⅲ  |         |
|              最小特征尺寸  |                          0.5μm  |                          1μm  |                          2μm  |         
|              最小线宽线距  |                          0.8μm  |                          1.2μm  |                          2.5μm  |         
|              CD均匀性  |                          10%  |                          10%  |                          10%  |         
|              两层对位精度 5x5m㎡  |                          500nm  |                          800nm  |                          1000nm  |         
|              两层对位精度 50x50m㎡  |                          800nm  |                          1000nm  |                          1500nm  |         
|              产能  |                          50mm²/min  |                          100mm²/min  |                          300mm²/min  |         
|              最小基板尺寸  |                          5mm x 5mm  |         ||
|              基板厚度  |                          0.1 - 12mm(可选)  |         ||
|              曝光面积  |                          150mm x 150mm  |         ||
|              灰度曝光  |                          可选128阶  |         ||
|              曝光光源  |                          Laser, 405nm or 375nm  |         ||