钙钛矿旋涂仪应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

旋涂仪应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

桌上型旋转涂布机将溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要应用于钙钛矿电池和光刻胶涂敷成膜等领域。主要应用于4、6寸样品。该款可为客户提供贴牌服务。

针筒式旋转涂布机MSC-200T-D桌上型半自动旋转涂布机用于对均匀性和一致性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液自动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、光栅、ITO、掩模版等基片上形成薄膜，主要应用于6、8寸晶圆及方形样品。将基材涂上一层特定的光刻胶、感光涂料或油墨， 取出后在进行后道烘干工艺。