针筒式旋转涂布机MSC-200T-D桌上型半自动旋转涂布机用于对均匀性和一致性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液自动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、光栅、ITO、掩模版等基片上形成薄膜，主要应用于6、8寸晶圆及方形样品。将基材涂上一层特定的光刻胶、感光涂料或油墨， 取出后在进行后道烘干工艺。

设备简介： 桌上型旋转涂布机，用于对均匀性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液手动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂等基片上形成薄膜，主要应用于12寸以内样品。