匀胶机设备简介：$n桌上型旋转涂布机，用于对均匀性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液手动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂等基片上形成薄膜，主要应用于12寸以内样品。

MAS4-BE光刻系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、曝光单元、显影单元等部分组成，该设备针对高校研究所实验室，特点是占地面积小，性价价比更高。整机采用框架结构，外表为不锈钢，无尘且不吸附颗粒，采用PC工控机操作界面控制，带FFU、上排风接口、腔体为黄\\白两色灯、重力排废接口、且每个模块均可独立工作，操作方式为手动上下样品。

桌上型旋转涂布机将溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要应用于钙钛矿电池和光刻胶涂敷成膜等领域。主要应用于4、6寸样品。该款可为客户提供贴牌服务。

应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

桌上型半自动显影机MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。$n显影单元基片采用真空吸附加四周挡板固定方式，采用进口伺服电机，保证转速、加速度、控制精度高，重复性好；供液系统采用厂务或者压力容器直接供液方式。

全柜式涂胶显影机该设备用于 8 寸晶圆的涂胶、显影、烘烤工艺；$n设备包括主要的工艺模块：涂胶模块 COT,显影模块 DEV、热 盘 HP 等（各腔体间有挡板隔开）等，按需设计，多样化选择；$n外观材料可选：PP，镜面不锈钢等；$n滴胶方式：手动、自动多样化选择；