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产品型号
MSC-75T - 
       
厂商性质
生产厂家 - 
       
更新时间
2025-10-13 - 
       
浏览次数
814 
产品描述
旋涂仪应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
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MAS4-BE曝光系统一体机光刻系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、曝光单元、显影单元等部分组成,该设备针对高校研究所实验室,特点是占地面积小,性价价比更高。整机采用框架结构,外表为不锈钢,无尘且不吸附颗粒,采用PC工控机操作界面控制,带FFU、上排风接口、腔体为黄\\白两色灯、重力排废接口、且每个模块均可独立工作,操作方式为手动上下样品。
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桌上型旋转涂布机将溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于钙钛矿电池和光刻胶涂敷成膜等领域。主要应用于4、6寸样品。该款可为客户提供贴牌服务。