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  • MSC-75T旋涂仪
    MSC-75T旋涂仪

    产品型号

    MSC-75T

    厂商性质

    生产厂家

    更新时间

    2025-10-13

    浏览次数

    814

    产品描述

    旋涂仪应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
  • MSC-200T-D自动滴胶匀胶机
    MSC-200T-D自动滴胶匀胶机

    产品型号

    MSC-200T-D

    厂商性质

    生产厂家

    更新时间

    2025-08-20

    浏览次数

    747

    产品描述

    自动滴胶匀胶机,MSC-200T-D桌上型半自动旋转涂布机用于对均匀性和一致性要求较高的表面涂布工艺,将光刻胶溶液自动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、光栅、ITO、掩模版等基片上形成薄膜,主要应用于6、8寸晶圆及方形样品。将基材涂上一层特定的光刻胶、感光涂料或油墨, 取出后在进行后道烘干工艺。
  • MSC系列匀胶机
    MSC系列匀胶机

    产品型号

    MSC系列

    厂商性质

    生产厂家

    更新时间

    2025-08-20

    浏览次数

    529

    产品描述

    匀胶机设备简介: 桌上型旋转涂布机,用于对均匀性要求较高的表面涂布工艺,将光刻胶溶液手动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂等基片上形成薄膜,主要应用于12寸以内样品。
  • MAS4-BE曝光系统一体机
    MAS4-BE曝光系统一体机

    产品型号

    MAS4-BE

    厂商性质

    生产厂家

    更新时间

    2025-10-13

    浏览次数

    424

    产品描述

    MAS4-BE曝光系统一体机光刻系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、曝光单元、显影单元等部分组成,该设备针对高校研究所实验室,特点是占地面积小,性价价比更高。整机采用框架结构,外表为不锈钢,无尘且不吸附颗粒,采用PC工控机操作界面控制,带FFU、上排风接口、腔体为黄\\白两色灯、重力排废接口、且每个模块均可独立工作,操作方式为手动上下样品。
  • MSC-150T桌上型旋转涂布机
    MSC-150T桌上型旋转涂布机

    产品型号

    MSC-150T

    厂商性质

    生产厂家

    更新时间

    2025-10-13

    浏览次数

    411

    产品描述

    桌上型旋转涂布机将溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于钙钛矿电池和光刻胶涂敷成膜等领域。主要应用于4、6寸样品。该款可为客户提供贴牌服务。
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