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产品型号
CG-H20 -
厂商性质
生产厂家 -
更新时间
2025-10-13 -
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362
产品描述
HMDS增粘涂胶机应用于在匀胶前的硅片等基片表面均匀涂布一层HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS处理后的硅片接触角，进而降低匀胶时光刻胶在硅片表面铺展开的难度，提高光刻胶与硅片的黏附性，降低光刻胶的用量。
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999产品描述
全柜式涂胶显影一体机概述： SHD6-BE涂胶显影系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、显影单元等部分组成，该设备针对高校研究所实验室，特点是占地面积小，性价价比更高。整机采用框架结构，外表为不锈钢或者PP，无尘且不吸附颗粒，采用7寸操作界面控制，带FFU、上排风接口、腔体为黄色灯、重力排废接口、且每个模块均可独立工作，操作方式为手动上下样品。
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684产品描述
桌上型成像仪MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。 桌上型成像仪显影单元基片采用真空吸附加四周挡板固定方式，采用进口伺服电机，保证转速、加速度、控制精度高，重复性好；供液系统采用厂务或者压力容器直接供液方式。
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MSD-150D厂商性质
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桌上型显影机MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。
产品型号
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钙钛矿旋涂仪应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
