一、概述 SHD6-BE涂胶显影系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、显影单元等部分组成，该设备针对高校研究所实验室，特点是占地面积小，性价价比更高。整机采用框架结构，外表为不锈钢或者PP，无尘且不吸附颗粒，采用7寸操作界面控制，带FFU、上排风接口、腔体为黄色灯、重力排废接口、且每个模块均可独立工作，操作方式为手动上下样品。

桌上型成像仪MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。$n桌上型成像仪显影单元基片采用真空吸附加四周挡板固定方式，采用进口伺服电机，保证转速、加速度、控制精度高，重复性好；供液系统采用厂务或者压力容器直接供液方式。

桌上型显影机MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。$n显影单元基片采用真空吸附加四周挡板固定方式，采用进口伺服电机，保证转速、加速度、控制精度高，重复性好；供液系统采用厂务或者压力容器直接供液方式。

钙钛矿旋涂仪应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

旋涂仪应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

自动滴胶匀胶机，MSC-200T-D桌上型半自动旋转涂布机用于对均匀性和一致性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液自动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、光栅、ITO、掩模版等基片上形成薄膜，主要应用于6、8寸晶圆及方形样品。将基材涂上一层特定的光刻胶、感光涂料或油墨， 取出后在进行后道烘干工艺。