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实验室无掩膜曝光机
产品简介

实验室无掩膜曝光机
CG-MLC6系列直写光刻机是一款精巧型光刻产品。该设备采用数字光刻技术,无需掩模 版,能够直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上。CG-MLC6系列直写光刻机功能灵活、体积小、性价比高,专为各高校、实验室及研究机构量身打造。其主要应用产品包括各类MEMS制作(如MEMS麦克风、压力传感器、 加速度计、陀螺仪、超声波传感器、压电传感器)、掩模板制作等。

产品型号:CG-MLC6
更新时间:2025-05-22
厂商性质:生产厂家
访问量:349
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实验室无掩膜曝光机产品特点:

数字光刻系统

微纳器件无掩模版直写光刻

光掩模版制作

3D结构曝光功能                                        

自动对准功能

用户自定义标记对准功能

可视化定点曝光功能

自动聚焦功能                                          

不规则样片曝光

快速、精细两种曝光模式

支持多种数据格式(GDSⅡ/ Gerber/ O DB++)

背部对准功能(选配)                   

405nm LD光源(375nm可选)

实验室无掩膜曝光机参数:

型号

MLC Lite

ModeⅠ

Mode  Ⅱ

Mode Ⅲ

最小特征尺寸

0.5μm

1μm

2μm

最小线宽线距

0.8μm

1.2μm

2.5μm

CD均匀性

10%

10%

10%

两层对位精度 5x5m㎡

500nm

800nm

1000nm

两层对位精度 50x50m㎡

800nm

1000nm

1500nm

产能

50mm²/min

100mm²/min

300mm²/min

最小基板尺寸

5mm x 5mm

基板厚度

0.1 - 12mm(可选)

曝光面积

150mm x 150mm

灰度曝光

可选128阶

曝光光源

Laser, 405nm or 375nm

 

 

 

 

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