显影机：光刻工艺的“图形显现师”

显影机是光刻工艺中的核心设备，其核心作用是将晶圆表面光刻胶经曝光后形成的“潜影"（肉眼不可见），通过化学作用转化为清晰可见的精细电路图形，是半导体芯片制造、精密电子元件生产中连接“曝光"与“蚀刻"的关键环节。

显影机的工作流程可简化为三步：首先，将曝光后的晶圆输送至显影腔室；随后，通过喷淋或浸泡方式，将显影液均匀作用于晶圆表面，选择性溶解未曝光（正胶）或曝光（负胶）的光刻胶，使潜影显现；最后，经清洗去除残留显影液、烘干固化，形成稳定的电路图形基础。

其核心结构包括输送系统（保证晶圆平稳精准传输）、显影系统（控制显影液温度、浓度与作用时间）、清洗烘干系统（提升图形稳定性）及控制系统（实现自动化精准调控）。随着芯片制程向3nm及以下推进，显影机正朝着更高精度、更高效率、更智能化的方向发展，为半导体产业的微型化、高密度化提供核心支撑。