旋涂仪是一种用于在基片表面均匀涂覆液体薄膜的设备
更新时间：2025-10-31
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旋涂仪又称匀胶机、甩胶机等，是一种用于在基片表面均匀涂覆液体薄膜的设备。是一种广泛应用于材料科学、半导体制造、微电子、光学和生物医学等领域的实验室及生产设备，其核心功能是在基片(如硅片、玻璃片、聚合物片等)表面均匀涂覆液体薄膜(如光刻胶、聚合物溶液、生物材料等)。
将液体材料滴加到静止或低速旋转的基片中心，基片在电机驱动下高速旋转，离心力使液体材料从中心向外铺展，随着旋转速度稳定，液体材料在基片表面形成均匀的薄膜。对于含溶剂的液体，旋转过程中溶剂挥发，形成固态或半固态薄膜。
旋涂仪通过高速旋转产生的离心力，使液体材料均匀铺展并形成厚度可控的薄膜。具体过程如下：
滴液：将液体材料(如光刻胶)滴加到静止或低速旋转的基片中心。
加速旋转：基片在电机驱动下高速旋转，离心力使液体材料从中心向外铺展。
薄膜形成：随着旋转速度稳定，液体材料在基片表面形成均匀的薄膜。
溶剂挥发(可选)：对于含溶剂的液体，旋转过程中溶剂挥发，形成固态或半固态薄膜。
主要特点
高均匀性：能实现纳米级厚度均匀性(±2% 以内)，适用于对薄膜均匀性要求很高的工艺，如光刻胶涂覆、抗反射涂层制备等。
厚度可控：通过调整旋转速度、涂布时间和材料黏度等参数，可以准确控制涂层的厚度。
适用范围广：适用的材料种类广泛，包括聚合物溶液、光刻胶、油墨、涂料等，还可用于硅片、玻璃、金属等不同材质的基板。
操作注意事项
操作时需选择合适的吸附盘，将基片放正，开启真空泵确保基片吸住后再启动旋转。滴胶动作要快，在规定时间内完成。电机停转后，才能打开上盖取下片子，且要定期对抽气室进行清洗，防止胶液吸入堵塞气路。
