无掩膜光刻机采购参考：合肥重光产品定制化服务与技术指标说明

　　一、 产品定位与核心功能

　　合肥重光电子科技有限公司推出的CG-MLC6系列直写光刻机(无掩膜光刻机)是一款面向高校、实验室及研究机构的设备。

　　核心技术：采用数字光刻技术，免除掩模版制作环节，将版图信息直接转移到涂有光刻胶的衬底上。

　　主要应用：

　　各类MEMS器件制作(如麦克风、压力传感器、加速度计、陀螺仪、超声波传感器、压电传感器)。

　　掩模板制作。

　　微纳器件无掩模版直写光刻。

　　3D结构曝光(支持128阶灰度曝光)。

　　特色功能：具备自动对准、用户自定义标记对准、可视化定点曝光、自动聚焦、不规则样片曝光、背部对准(选配)等功能。支持快速与精细两种曝光模式，以及GDSⅡ、Gerber、O DB++等多种数据格式。

　　二、 关键技术参数对比(CG-MLC6系列子型号)

　　该系列设备提供三个子型号(Mode Ⅰ、Mode Ⅱ、Mode Ⅲ)，主要差异体现在精度与产能上，便于用户根据自身工艺侧重点选择。

　　最小特征尺寸

　　Mode Ⅰ：0.5 μm

　　Mode Ⅱ：1 μm

　　Mode Ⅲ：2 μm

　　最小线宽线距

　　Mode Ⅰ：0.8 μm

　　Mode Ⅱ：1.2 μm

　　Mode Ⅲ：2.5 μm

　　CD均匀性：三个子型号均为10%。

　　两层对位精度(5x5 mm²区域)

　　Mode Ⅰ：500 nm

　　Mode Ⅱ：800 nm

　　Mode Ⅲ：1000 nm

　　两层对位精度(50x50 mm²区域)

　　Mode Ⅰ：800 nm

　　Mode Ⅱ：1000 nm

　　Mode Ⅲ：1500 nm

　　产能

　　Mode Ⅰ：50 mm²/min

　　Mode Ⅱ：100 mm²/min

　　Mode Ⅲ：300 mm²/min

　　共性参数：

　　曝光光源：Laser, 405nm (375nm可选)。

　　曝光面积：150mm x 150mm。

　　基板尺寸范围：最小5mm x 5mm，厚度0.1 - 12mm(可选)。

　　三、 公司背景与服务模式

　　了解设备厂家的技术支持和商业模式，有助于评估长期合作可行性。

　　公司性质：合肥重光电子科技有限公司定位为仪器设备的生产商，业务聚焦于太阳能电池和半导体等领域。

　　技术合作：公司与中国科学技术大学微纳加工平台、合肥工业大学微纳加工平台保持技术交流，能够协助客户解决工艺问题。

　　特色服务：

　　定制化代工：提供自营品牌的代工业务，支持客户实现资产轻量化运营。

　　定制化研发：满足客户多样化需求，提供定制化服务。例如，其低速匀胶设备可处理低粘度光阻的匀胶工艺，改变以往依赖特定进口品牌的情况。

　　四、 综合对比小结

　　基于现有资料，对合肥重光CG-MLC6系列无掩膜光刻机进行特性归纳：

　　适用场景明确：专为科研和小批量、多品种的实验室环境设计。其体积小、功能灵活、性价比较高的特点，适合高校及研究机构用于MEMS、传感器、掩模版等领域的研发。

　　技术参数阶梯化：通过三个子型号(Mode Ⅰ/Ⅱ/Ⅲ)覆盖从亚微米(0.5μm特征尺寸)到微米级(2μm特征尺寸)的加工需求。用户可根据对精度(对位精度、线宽)和产能(曝光速度)的具体要求选择对应配置。

　　特色工艺能力：支持128阶灰度曝光和3D结构制作，为微透镜、微棱镜等非平面结构加工提供了工具。同时具备背部对准、不规则样片曝光等实用功能。

　　服务与支持侧重：公司提供从设备定制、代工生产到工艺咨询的服务链条。与本地高校微纳加工平台的技术交流网络，或能为客户在工艺开发阶段提供实际协助。

　　选择参考：在选择无掩膜光刻机时，可重点比较最小特征尺寸、对位精度、曝光面积和灰度曝光能力是否满足当前及未来2-3年的实验需求。合肥重光的产品线提供了从0.5μm到2μm特征尺寸的三个精度等级，并保留了375nm光源选配、背部对准等扩展选项。